Оптимизация процесса получения фотоннокристаллических масок для наносферной литографии

Выпуск 1, март 2019

Аннотация

Перспективным способом получения массивов наночастиц и двумерных фотонных кристаллов является наносферная литография. В работе представлены результаты экспериментальных исследований процесса формирования фотоннокристаллического коллоидного слоя, выполняющего роль маски. Наиболее технологичным способом формирования такой структуры является метод вертикального вытягивания подложки из коллоидного раствора. За счет варьирования параметрами раствора и скоростью движения подложки метод позволяет получать фотоннокристаллические пленки с заданными характеристиками. В работе представлены результаты оптимизации процесса формирования пленок.

Сведения об авторах

Жуков Роман Михайлович

Жуков Роман Михайлович

Место учебы - МГТУ им. Н.Э.Баумана, кафедра "Электронные технологии в машиностроении", специальность "Электроника и наноэлектроника",

Ибрагимов Артём Рустамович

Ибрагимов Артём Рустамович

Место учебы - МГТУ им. Н.Э.Баумана, кафедра "Электронные технологии в машиностроении", специальность "Электроника и наноэлектроника".

Панфилова Екатерина Вадимовна

Панфилова Екатерина Вадимовна

Кандидат технических наук, доцент кафедры "Электронные технологии в машиностроении" МГТУ им. Н. Э. Баумана .

Область научных интересов: процессы самоорганизации, технология наноструктур.