Управление энергетическим воздействием на подложку путём изменения параметров импульсов электропитания магнетронной распылительной системы
Гренадёров А.С., Захаров А.Н., Оскирко В.О., Павлов А.П., Семенов В.А., Соловьев А.А.
Ключевые слова: СИЛЬНОТОЧНОЕ ИМПУЛЬСНОЕ МАГНЕТРОННОЕ РАСПЫЛЕНИЕ, ИСТОЧНИК ПИТАНИЯ
Аннотация
На примере использования трех металлических мишеней (Al, Ti, Cr), продемонстрирована возможность управления удельной энергией, передаваемой покрытию в процессе его роста за счёт изменения длительности и частоты импульсов питания при фиксированной средней мощности разряда, давлении рабочего газа и расстоянии от мишени до подложки.Controlling the energy impact on the substrate by changing the pulses parameters of the magnetron sputtering system power supply
Grenadyorov A.S., Zakharov A.N., Oskirko V.O., Pavlov A.P., Semenov V.A., Solovyev A.A.
Keywords: HIPIMS, POWER SUPPLY