Установка магнетронного распыления и ионного травления УРМ 3.279.036
Шашин Д.Е., Сушенцов Н.И., Парсаев В. А.
Ключевые слова: МАГНЕТРОННОЕ РАСПЫЛЕНИЕ, ПОКРЫТИЯ, ВАКУУМНАЯ УСТАНОВКА
Аннотация
В данной статье описана модернизированная установка магнетронного распыления и ионного травления УРМ 3.279.036 предназначенная для реализации технологии формирования наноструктурированных пленок различных металлов и их соединений.Installation of magnetron sputtering and ion etching URM 3.279.036
D.E. Shashin, N.I.Sushentsov, V.A. Parsaev
Keywords: MAGNETRON SPUTTERING, COATINGS, VACUUM INSTALLATION