Особенности формирования многослойных структур методом магнетронного распыления

Шашин Д.Е., Романов А. Л. , Дьячков А. Д., Волков К. А.
Ключевые слова: МАГНЕТРОННОЕ РАСПЫЛЕНИЕ, МНОГОСЛОЙНАЯ СТРУКТУРА, ТОНКОПЛЕНОЧНАЯ СТРУКТУРА

Аннотация

Многослойные тонкопленочные структуры являются важным средством для развития множества направлений науки и техники, поэтому в статье рассмотрены особенности их формирования с помощью метода магнетронного распыления. Описываются методы напыления данных структур и возможности для получения равномерных и высококачественных пленок. Приводится оптимальный вариант конструкции системы напыления и типовая схема технологического процесса.

Features of the formation of multilayer structures by magnetron sputtering

D.E. Shashin, A.L. Romanov, A.D. Dyachkov, K.A. Volkov
Keywords: MAGNETRON SPUTTERING, MULTILAYER STRUCTURE, THIN FILM STRUCTURE

Abstract

Multilayer thin-film structures are an important tool for the development of many areas of science and technology, so the article considers the features of their formation using the method of magnetron sputtering. The methods of sputtering of these structures and possibilities for obtaining uniform and high quality films are described. The optimal variant of the sputtering system design and a typical scheme of the technological process are given.