Ключевые слова: ЭЛИОННЫЕ ТЕХНОЛОГИИ, ИОННОПЛАЗМЕННЫЕ МЕТОДЫ, МАГНЕТРОННОЕ РАСПЫЛЕНИЕ

Аннотация

Работа посвящена изучению процесса нанесения слоя металлизации на подложки для создания радиопередающих компонентов. Основными методами реализации являются ионное травление и магнетронное распыление. В ходе исследований были получены математические зависимости толщин слоев металлизации и стравленных слоев от технологических режимов. Данные исследования выполнены на вакуумной установке МВТУ11-1МС. Топология будущего передающего устройства формируется через шаблон с размерами в доли микрометра. Перспективами развития являются создание полноценного радиопередающего устройства на микрополосковых компонентах.

Keywords: ION TECHNOLOGIES, ION PLASMA METHODS, MAGNETRON SPUTTERING

Abstract

The work is devoted to the study of the process of applying a metallization layer to substrates to create radio transmitting components. The main methods of implementation are ion etching and magnetron sputtering. In the course of the research, mathematical dependences of the thicknesses of the metallization layers and the etched layers on the technological modes were obtained. These studies were performed on a vacuum installation MVTU11-1MS. The topology of the future transmitting device is formed through a template with dimensions in fractions of a micrometer. The prospects for development are the creation of a full-fledged radio transmitting device based on microstrip components.