Ключевые слова: ТОНКИЕ ПЛЕНКИ, ТОЛЩИНА, ТЕХНОЛОГИИ, РАСПЫЛЕНИЕ, ОСТАТОЧНЫЕ НАПРЯЖЕНИЯ

Аннотация

Рассмотрена актуальность изучения и контроля толщины покрытий для оценки влияния на величины остаточных механических напряжений в тонкопленочных слоях и многослойных структурах. Описано технологическое оборудование для формирования диэлектрических и проводящих покрытий в вакууме. Описан принцип измерения толщины тонкопленочных покрытий на зондовом профилометре TR220. Представлены результаты измерения скорости осаждения таких материалов, как: SiO2 и Al2O3, Cu и Cr.

Keywords: THIN FILMS, THICKNESS, TECHNOLOGIES, SPUTTERING, RESIDUAL STRESSES

Abstract

The relevance of studying and checking the coatings thickness to assess the effect on the magnitude of residual mechanical stresses in thin-film layers and multilayer structures is considered. The technological equipment for forming dielectric and conductive coatings in a vacuum is described. Measuring thickness principle of thin-film coatings using the TR220 probe profilometer is described. The results of measuring the deposition rate of such materials as: SiO2 and Al2O3, Cu and Cr are presented.