Ключевые слова: КОМПЬЮТЕРНОЕ МОДЕЛИРОВАНИЕ, МАГНЕТРОННОЕ НАНЕСЕНИЕ, ПОКРЫТИЕ, ВАКУУМНОЕ ОБОРУДОВАНИЕ

Аннотация

Представлена методика выбора компоновки технологической системы вакуумной установки магнетронного нанесения тонкопленочных покрытий на детали сложной формы. Для расчета равномерности нанесения покрытий на детали использовалась разработанная авторами программа моделирования процесса магнетронного нанесения покрытий «TFDepositionR». Приведены результаты моделирования для различных вариантов компоновки внутрикамерной системы. Выбор предпочтительной компоновки осуществлялся на основе таких критериев, как обеспечение требуемой равномерности покрытий на деталях и повышенная технологическая производительность.

Keywords: COMPUTER MODELING, MAGNETRON DEPOSITION, COATING, VACUUM EQUIPMENT

Abstract

The method of choosing the technological system layout of a vacuum installation for magnetron deposition thin-film coatings on complex shape parts is presented. To calculate the uniformity of coating on the parts, the authors used the "TFDepositionR" program for modeling the magnetron coating process. The modeling results for various variants of the in-chamber layout system are presented. The choice of the preferred layout was carried out on the basis of such criteria as ensuring the coatings required uniformity on parts and increased technological productivity.