Ключевые слова: ВАКУУМНОЕ КЛАСТЕРНОЕ ОБОРУДОВАНИЕ; КРЕМНИЕВЫЕ ПЛАСТИНЫ; ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВОЙ ИСПАРИТЕЛЬ, МЕТАЛЛИЗАЦИЯ.

Аннотация

Исследована эффективность работы серийно выпускаемой установки с электронно-лучевым испарителем (ЭЛИ) периодического действия и новой вакуумной установки с ЭЛИ полунепрерывного действия. Проанализировано, что на новой установке цикловая производительность выше даже при загрузке меньшего количество подложек на групповой подложкодержатель, при этом существенно повышается выход годных интегральных микросхем.

Keywords: VACUUM CLUSTER EQUIPMENT; SILICON WAFERS; ELECTRON BEAM EVAPORATOR, METALLIZATION.

Abstract

The efficiency of a mass-produced installation with the electron-beam evaporator (EBE) of periodic operation and the new vacuum installation with the EBE of semi-continuous operation is investigated. It is analyzed that the cycle performance is higher on the new installation even when loading a smaller number of substrates onto a group substrate holder, while the output of suitable integrated circuits is significantly increased.