Вакуумное ионно-плазменное травление при формировании элементов микроэлектроники
Сидорова С.В., Пименов И. Е.
Ключевые слова: вакуумные технологии, ионно-плазменные технологии, ионное травление, формирование топологии
Аннотация
В работе приведены результаты исследований травления металлов методом ионно-плазменной обработки. Приведены результаты изготовления экспериментальных образцов частотных фильтров, полученных с использованием ионного травления. Приведены результаты исследования геометрических параметров полученной топологии.Vacuum ion-plasma etching in microelectronics elements formation
Sidorova S.V., I.E. Pimenov
Keywords: vacuum technologies, ion-plasma technologies, ion etching, topology formation