Вакуумное ионно-плазменное травление при формировании элементов микроэлектроники

Сидорова С.В., Пименов И. Е.
Ключевые слова: вакуумные технологии, ионно-плазменные технологии, ионное травление, формирование топологии

Аннотация

В работе приведены результаты исследований травления металлов методом ионно-плазменной обработки. Приведены результаты изготовления экспериментальных образцов частотных фильтров, полученных с использованием ионного травления. Приведены результаты исследования геометрических параметров полученной топологии.

Vacuum ion-plasma etching in microelectronics elements formation

Sidorova S.V., I.E. Pimenov
Keywords: vacuum technologies, ion-plasma technologies, ion etching, topology formation

Abstract

The paper presents the results of metal etching studies by ion-plasma treatment. The results of frequency filters manufacturing experimental samples obtained using ion etching are presented. The results of the obtained topology the geometric parameters study are presented.