Планарный магнетрон с ускорением инжектируемых электронов в катодном слое
Оскирко В.О., Шандриков М.В., Черкасов А.А., Климов А.С., Тюньков А.В., Фролова В.П. , Визирь А.В.
Ключевые слова: магнетрон, инжекция электронов, низкое рабочее давление, пленки
Аннотация
Представлены результаты экспериментального исследования метода снижения предельного рабочего давления планарного магнетронного разряда. Основной эффект достигается за счет инжекции дополнительных электронов из плазмы эмиттерного разряда, расположенноого с обратной стороны распыляемой мишени, и последующим ускорением этих электронов в катодном слое магнетронного разряда. Инжекция электронов в магнетронный разрядный промежуток осуществляется через эмиссионную апертуру малого диаметра (1-3 мм), расположенную в центре мишени в области наименьшего ионного распыления вдоль силовых линий магнитного поля. Перепад давления на эмиссионной апертуре обеспечивает стабильное зажигание и функционирование эмиттерного разряда с одной стороны, и низкое требуемое рабочее давление в области магнетронного разряда с другой. Предложенный метод выгодно отличается от используемых ранее систем с внешними источниками электронов более высокой энергетической эффективностью. В области предельно низкого рабочего давления (менее 0.5 мТорр) суммарные энергетические затраты на двухступенчатую разрядную систему оказываются меньше, чем на одноступенчатый магнетронный разряд. Предельное рабочее давление для магнетронного разряда с медной мишенью диаметром 120 мм составило 0.25 мТорр.Planar magnetron with acceleration of injected electrons in the cathode layer
Oskirko V.O., M.V. Shandrikov, A.A. Cherkasov, A.S. Klimov, A.V.Tyunkov, V.P.Frolova, A.V.Vizir
Keywords: magnetron, operating pressure, electron injection