Ключевые слова: ФОТОННЫЙ КРИСТАЛЛ (ФК), КОЛЛОИДНЫЕ ПЛЕНКИ, КОЛЛОИДНЫЙ ПОЛИСТИРОЛ, ПЛАЗМЕННОЕ ТРАВЛЕНИЕ

Аннотация

Коллоидные пленочные структуры являются перспективным для наноинженерии материалом. Плотность упаковки коллоидных микросфер является одной из основных характеристик структуры таких пленок. Варьируя ее, можно изменять параметры фотонной запрещенной зоны пленки и формируемой на ее основе инверсной структуры, форму и размер наночастиц, получаемых в процессе микросферной литографии. Наиболее технологичным способом получения структуры с заданной плотностью упаковки микросфер является плазмохимическое травление готовых плотноупакованных коллоидных пленок. В результате изменяется не только плотность упаковки, но и диаметр микросфер. Объектом исследования в данной работе являются монослойные фотонно-кристаллические структуры на основе микросфер полистирола, полученные методом вертикального осаждения. Показаны результаты экспериментальных исследований влияния параметров процесса плазменной обработки на параметры коллоидной структуры. Дано объяснение механизму процесса.

Keywords: PHOTONIC CRYSTAL, COLLOIDAL FILM, COLLOIDAL POLYSTYRENE, PLASMA ETCHING

Abstract

Colloidal film structures are a promising material for nanoengineering. The packing density of colloidal microspheres is one of the main characteristics of the structure of such films. By varying it, one can change the parameters of the photonic band gap of the film and the inverse structure formed on its basis, as well as the shape and size of nanoparticles obtained in the process of microsphere lithography.The most technologically advanced way to obtain a structure with a given packing density of microspheres is plasma-chemical etching of finished close-packed colloidal films. As a result, not only the packing density changes, but also the diameter of the microspheres. The object of study in this work is monolayer photonic crystal structures based on polystyrene microspheres obtained by vertical deposition. The results of experimental studies of the influence of the parameters of the plasma treatment process on the parameters of the colloidal structure are shown. An explanation of the mechanism of the process is given.